关键时刻提供保护
硅晶圆和半导体生产需要一个严苛的环境。这种腐蚀性环境会大大缩短用于容纳关键工艺的反应腔室的零部件寿命,威胁到高度敏感产品的质量。整个半导体行业熟知,APS 专注于高质量、高度工程化的喷涂涂层。我们拥有超过25年的经验,运用能够保持零件和涂层无污染的工艺流程,为半导体设备提供保护涂层。
半导体解决方案
在决定晶圆厂输出质量时,涂层的电阻是晶圆加工或 LCD 玻璃制备过程中的一个关键因素。如果没有高质量的涂层,基体腐蚀导致停机并导致昂贵的更换成本只是时间问题。APS开发了多种可供OEM和二级供应商使用的专有涂层。通过涂层对DPS上体腔室、挡板、球阀和闸阀组件以及您的所有半导体设备的保护,可以延长其寿命、提升其性能。
半导体产品
DPS腔体和衬垫(美国总部)
金属和聚合物蚀刻DPS上腔室 200mm/300mm 的全面翻新:0021-01421、0040-02544、0040-52662、0020-33806、0021-09601 和 0020-33802 的原始 A-Coat 产品。APS Materials 从 1994 年开始设计了几种专有涂层,OEM原厂及二手供应商使用这些涂层来保护严重蚀刻环境中的解耦等离子源 (DPS) 工艺腔室。仅通过阳极氧化无法长时间保护您的腔室,但添加我们的金属蚀刻和聚合物蚀刻涂层,能够使腔室寿命延长 10 倍,在某些情况下可以比单纯的阳极氧化延长 30 倍。可以提供全面翻新。
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挡板
通过孔或缝隙的层流气体,只能通过均匀、可重复的已知厚度和排列来实现。
APS Materials,Inc.的涂层可提供抗腐蚀性和磨损防护、更强的热绝缘性能,以及根据需求的导电或者介电(绝缘)特性。
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球阀组件
球阀或阀座上的沉积物、腐蚀或侵蚀最终将导致停机或因密封失效而造成产品损失。APS Materials,Inc.利用美国为数不多的真空等离子系统之一,在内部阀门组件上涂上薄而高附着力的涂层以延长阀门寿命。
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钟罩(圆顶)
在晶圆蚀刻过程中,需要收集松散的导电颗粒,以免在后续工艺中导致电路故障。通常,氧化钇会用作超纯涂层来捕获和保留微粒。内部作业区域涂有氧化钇(使用一种方法,以产生高表面粗糙度),可直接保持喷涂状态。
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波纹管和盖子
当晶圆穿运过腔室时,高真空波纹管盖最终会被蚀刻环境附着上。无论作为内部涂层还是外部涂层,氧化铝涂层长期以来一直被认为是延长波纹管寿命和保持真空能力的标准(涂层)。
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沉积屏蔽和PVS内衬
物理气相沉积腔室中存在大量松散颗粒。沉积屏蔽层和衬垫通过捕获颗粒并将其保留在涂层中来减少颗粒数量,因此被视为用于产生溅射等离子体的主动屏蔽层。涂层屏蔽层还可充当散热器,以吸收来自RF天线热源的辐射。
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电极
上、下电极需要介质涂层来保持等离子环境正常运转。高纯度的氧化铝将在每次生产周期内保持介电完整性。
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静电吸盘 (ESC)
当高纯度介电涂层以非常致密、非常耐用的一层形式应用时,其性能会得到增强。APS Materials,Inc.的涂层具有较长的使用寿命、较高的击穿电压(4000 伏以上)以及相对较短的脱夹时间。APS Materials,Inc.为该行业提供高纯度陶瓷介电涂层已有 10 多年,我们在该领域的专业知识无与伦比。
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固定夹式约束装置
用于处理硅晶片的设备是保护蚀刻过程中和蚀刻后所需的无污染电路的最后一道防线。APS Materials,Inc.使用 5n 纯度及以上的硅 (99.999%) 来涂覆与关键组件接触的指尖末端。
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五金件/紧固件
作为任何组件的必要组成部分,所有类型的紧固件都会受到恶劣工艺环境的腐蚀,表面侵蚀会使松散的颗粒污染您的产品。APS Materials,Inc.可以使用薄涂层保护螺钉头、垫圈、螺母和其他带有纯铝或锌等保护材料的紧固件。
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百叶和套管
无论您的阴极套或百叶窗板需要防腐蚀或某种涂层作为松散颗粒的保留材料。
APS Materials,Inc.的纯氧化铝和氧化钇都是可选择的涂层。高纯度的二氧化硅或尖晶石(氧化镁和氧化铝)也可以增加百叶窗基材寿命。
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离子束注入掩蔽膜
工业粒子加速器组件需要保护免受离子束的伤害。APS Materials,Inc.提供几乎无污染的钨金属涂层,密度恰到好处,可用于晶圆掩模,传输外壳和杯,可提供高达10-60 MeV的保护,光束功率高达25 kW。
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电磁板和盖板
磁铁板的一个常见应用是在铁杂质进入腔室之前去除它们。APS Materials,Inc.提供了一种超纯硅涂层,以保护磁铁板和盖板免受腐蚀,提供了一种保留材料,以捕获脱落的污染颗粒,并保护您的稀土元素磁铁。
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基座
对于解除吸附(解夹)流程来说,保持你的基座的介电性能是必不可少的。基材的腐蚀会导致介质损耗,也会损坏您的设备。APS Materials,Inc.提供4n纯度的氧化铝或氧化钇涂层,以防止介电损耗并延长组件寿命。涂层后可以对基座进行研磨和抛光,以获得光滑的真空密封表面。
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石英
制备用于热喷涂涂层的石英衬底是一个精细的过程,但APS Materials,Inc.已经完善了这一过程。可以直接涂在石英上的涂层包括氧化铝、氧化钇、氧化锆和二氧化硅。通过在基材上施加一层薄粘合涂层,可以在石英上涂覆额外的涂层,从而使涂层的可能性变得无穷无尽。
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喷头(GDP)气体分配盘
蚀刻气体在晶圆片上的均匀层流是至关重要的。APS Materials,Inc.已经完善了气体分配板或淋浴喷头的涂层,以根据客户的确切规格涂覆通孔。无论需要锥度、完全涂覆的孔还是根本不能过喷,APS Materials,Inc.都可以根据您的要求定制涂层。
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狭缝阀
真空处理室的开口特别容易受到腐蚀和污染。APS 提供标准氧化物涂层,以及纯硅和二氧化硅。由于采用了全面的遮蔽技术和工艺,Viton O 形圈得以保存。
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溅射靶材
PVD 操作依赖于干净的溅射靶,靶上装有挡圈以捕获松散的颗粒。APS Materials,Inc.提供纯铝电弧喷涂(暨铝熔射)涂层,可产生(面积)高达未涂层表面积5倍的环,并与基材形成约7,000 psi的高结合强度。APS 还可涂覆纯钽、钼和铜。
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晶圆涂层
APS Materials 最近推出的硅晶片涂层可应用于半导体和光伏市场。APS 已实现厚度高达 2 毫米的超纯硅涂层,具有高抗拉强度、低翘曲度(弯曲)和高密度。然后可对晶片进行表面处理和研磨,使其达到正确的厚度,剩下一片纯硅圆盘。
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观光窗/光圈窗口
化学气相沉积(CVD)室中的视窗可防止等离子沉积过程中的热量损失。由于视窗充当 CVD 室的内壁,因此需要对基材进行涂层以进行绝缘和防腐蚀,同时仍允许集成加热元件正常工作。APS Materials,Inc.提供氧化铝涂层来绝缘并防止聚合物粘附在视窗上。
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节省时间和金钱
半导体组件上的沉积物、腐蚀或侵蚀最终将导致停机或产品损失。APS Materials,Inc.是美国为数不多的利用真空等离子体系统涂覆薄而高黏性涂层的企业之一,且其涂层可通过研磨和叠加以延长使用寿命。您可以从一开始就对设备部件进行涂层处理,而无需在后续的维修上浪费时间和金钱。在保护半导体设备(包括静电卡盘、固定夹约束装置、百叶窗和套管)方面,我们的专业技能无与伦比。